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無塵室用，超大型PDP基板用直立型曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
無塵室用，超大型PDP基板用直立型曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
無塵室用，超大型PDP基板用直立型曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
無塵室用，超大型PDP基板用直立型曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
無塵室用，超大型PDP基板用直立型曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
實(shí)現(xiàn)PDP用世界*大基板(42英寸16面)均勻曝光的近接曝光機(jī)。
特長：
支撐高精度的獨(dú)自技術(shù)
<光學(xué)間隙傳感器> 在非接觸的條件下,高速度和高精度地設(shè)定近接間隙。
<高速圖像處理技術(shù)> 掩膜以及掩膜與基板的高精度對位。
穩(wěn)定搬送
直立配置掩膜臺和基板臺,不需要補(bǔ)正因掩膜和掩膜臺以及基板臺的自身重量而造成的彎曲變形。
無塵措施
在無塵化要求更加嚴(yán)格的CF用曝光裝置等的經(jīng)驗和設(shè)計的基礎(chǔ)上,采取了減少驅(qū)動部微粒子發(fā)生及考慮到氣流的無塵對策。
