EYELA東京理化，流程反應(yīng)器DDL-2000型，濃縮裝置，日本代理，DSWF0422
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EYELA東京理化，流程反應(yīng)器DDL-2000型，濃縮裝置，日本代理，DSWF0422

EYELA東京理化，流程反應(yīng)器DDL-2000型，濃縮裝置，日本代理，DSWF0422
EYELA東京理化，流程反應(yīng)器DDL-2000型，濃縮裝置，日本代理，DSWF0422

EYELA東京理化，流程反應(yīng)器DDL-2000型，濃縮裝置，日本代理，DSWF0422

1、化學(xué)流程?醫(yī)藥品開發(fā)用反應(yīng)裝置。

2、DDL-2000型是實(shí)際模擬實(shí)際反應(yīng)的水套是反應(yīng)釜，配置了內(nèi)部溫度傳感器，葉輪攪拌裝置，對(duì)實(shí)際生產(chǎn)中相同流程下的反應(yīng)條件進(jìn)行控制研究和記錄，進(jìn)行篩選反應(yīng)。
3、對(duì)于等溫條件下試料滴下反應(yīng)回收率的精度進(jìn)行研究，從而確立工業(yè)化生產(chǎn)的效率。
4、對(duì)于反應(yīng)初始溫度、等溫滴下實(shí)驗(yàn)和*高到達(dá)溫度都可以進(jìn)行研究

反應(yīng)容器	水套式反應(yīng)槽?1L
合成量	300~1000mL
攪拌方式	機(jī)械攪拌（4片式攪拌、SUS304制）
溫度調(diào)節(jié)范圍	10~80℃ （水套溫度）需配冷卻水循環(huán)裝置
溫度調(diào)節(jié)精度	±0.1℃
轉(zhuǎn)速范圍	10 ~ 600rpm
溫度設(shè)定?顯示	薄膜式按鍵輸入設(shè)定?數(shù)字顯示
攪拌設(shè)定?顯示	旋鈕設(shè)定?數(shù)字顯示
*大扭矩	0.49N·m/600rpm
*大冷卻速度	水套溫度：20~30K/min     反應(yīng)容器溫度：4.0K/min
*大升溫速度	水套溫度：7.0K/min     反應(yīng)容器溫度：3.0K/min
溫度控制種類	反應(yīng)容器控制、水套控制、等溫控制、梯度控制
**功能	漏電過(guò)流保護(hù)器、獨(dú)立過(guò)升保護(hù)器、循環(huán)水位過(guò)低報(bào)警、緊急冷卻功能、手動(dòng)冷卻功能、上下限溫度報(bào)警、SSR短路
外形尺寸（mm）?質(zhì)量	330Wx420Dx1030H?30kg
電源規(guī)格	AC100V   50/60Hz?12A  1200VA

產(chǎn)品特點(diǎn)：

1、   采取水套方式用于化學(xué)流程工業(yè)化?生產(chǎn)放大化研究用的反應(yīng)裝置。
2、   容器采用水套方式，通過(guò)加熱器加熱或者低溫裝置冷卻，可以使水溫混合達(dá)到任意溫度，通過(guò)循環(huán)方式對(duì)反應(yīng)液進(jìn)行溫度控制。

3、   溫度控制有兩種，一種是反應(yīng)液溫度控制（控制反應(yīng)容器內(nèi)物質(zhì)的溫度）；一種是水套式溫度控制（控制水套內(nèi)的水溫）。對(duì)研究反應(yīng)速度，流程*佳化實(shí)驗(yàn)，預(yù)測(cè)合成量放大化等非常適合。

4、   因?yàn)楦綆囟瘸绦蚩刂?，?duì)于一定溫度的保持，溫度保持一定的曲線進(jìn)行升溫或者降溫都可以進(jìn)行控制。

5、   反應(yīng)容器附帶提取閥，可以隨時(shí)抽取樣品進(jìn)行分析。